< Terug naar vorige pagina
Publicatie
Thin, low roughness Ru films deposited by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition using RuO4 and H2 at low temperatures
Boekbijdrage - Boekabstract Conferentiebijdrage
Boek: SR-ALD workshop : 12-15 June 2016, ALBA Synchrotron, Barcelona (Spain)
Aantal pagina's: 1
Jaar van publicatie:2016