< Terug naar vorige pagina
Publicatie
Cryogenic etching processes applied to porous low-k materials using C4F8/SF6 plasmas
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel
Tijdschrift: Journal of Physics D, Applied Physics
ISSN: 0022-3727
Issue: 43
Volume: 48
Pagina's: 435202
Jaar van publicatie:2015