Publicatie

Plasma enhanced atomic layer deposition of aluminum sulfide thin films

Tijdschrift: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

ISSN: 1520-8559

Issue: 1

Volume: 36

Jaar van publicatie:2018

BOF-keylabel:ja

IOF-keylabel:ja

BOF-publication weight:0.1

CSS-citation score:1

Auteurs:National

Authors from:Higher Education

Toegankelijkheid:Closed