< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Atomic layer deposition of localized boron- and hydrogen-doped aluminum oxide using trimethyl borate as a dopant precursor

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: CHEMISTRY OF MATERIALS

ISSN: 1520-5002

Issue: 10

Volume: 32

Pagina's: 4152 - 4165

Jaar van publicatie:2020

Handle: http://hdl.handle.net/1854/LU-8690481
WoS Id: 000537657500004
DOI: https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.9b04967

Toegankelijkheid:Closed