< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Atomic Layer Deposition of Ru-containing materials using RuO4 as both the co-reactant and the metal source

Boekbijdrage - Boekabstract Conferentiebijdrage

Boek: AVS 20th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2020), Abstracts

Aantal pagina's: 1

Jaar van publicatie:2020

Handle: http://hdl.handle.net/1854/LU-8690265

Toegankelijkheid:Open