Ontwikkeling van sub 18-nanometer pitch EUV-lithografie en plasma-etsprocessen voor toekomstige CMOS technologie

De studie is een doctoraatspositie aan de KU Leuven in samenwerking met imec, Heverlee. Het onderwerp is ' Ontwikkeling van sub 18-nanometer pitch EUV-lithografie en plasma-etsprocessen voor toekomstige CMOS technologie'. Er zijn twee belangrijke facetten aan dit project - 'Lithografie' en 'Plasma-etsoverdrachtproces'. Beide vormen de kern van de productie van halfgeleiders voor informatie- en communicatietechnologie (ICT). De massaproductie van ICT technologie gebeurde tot voor kort met diep ultraviolet licht (DUV); de drang naar kleinere en snellere componenten heeft er echter toe geleid dat de ICT-industrie extreme ultraviolet (EUV) lithografie is overgeschakeld. Het project combineert lithografische en plasma ets aspecten. Er zijn dunne resists nodig om de kleine dimensies af te beelden. Dit creëert uitdagingen voor de plasma-etsprocessen die worden gebruikt om het beeld over te brengen naar de materiaallaag. Dit veelzijdig doctoraatsproject heeft tot doel om materialen en processen te bestuderen die nodig zijn voor zowel de EUV-lithografie als de etsprocessen. Het project zal gebruik maken van de op High Harmonic Generated (HHG) gebaseerde EUV-bronnen binnen het nieuw geïnstalleerde imec AttoLab. Deze infrastructuur biedt een representatieve testomgeving die nodig is om materialen te ontwikkelen voor sub-18 nanometer plasma-etsprocessen. Het project zal voortbouwen op gevestigde technieken voor interferentielithografie en nieuwe technieken onderzoeken en ontwikkelen voor ruimtelijke en temporele coherentie bundeluitlijning. Deze zijn nodig voor verbeterde interferentie beeldvorming en voor patroonplaatsing van die interferentiepatronen.