< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Numerical characterization of capacitively coupled plasmas modulated by ion beam injection

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: Plasma Sources Science & Technology

ISSN: 0963-0252

Issue: 4

Volume: 31

Jaar van publicatie:2022

Institutional Repository URL: https://lirias.kuleuven.be/3747535
DOI: https://doi.org/10.1088/1361-6595/ac64c0
WoS Id: 000790545500001

Toegankelijkheid:Closed