< Terug naar vorige pagina

Project

Een fundamentele studie van nucleatie en groei tijdens thermische en plasmaversterkte atomaire laag depositie van edelmetalen via in situ synchrotron-gebaseerde karakterisatietechnieken.

Tijdens dit project in het de bedoeling om meer inzicht te verwerven in atomaire laag depositie (ALD) van edelmetalen. In situ x-stralen fluorescentie en verstrooiingstechnieken zullen gebruikt worden om de vorming van nanodeeltjes tijdens de initiƫle groeifase te bestuderen, alsook het sintergedrag van de nanodeeltjes bij verhoogde temperatuur en het effect van stabiliserende ultradunne ALD coatings.

Datum:1 okt 2013 →  1 mrt 2020
Trefwoorden:nucleatie, groeikinetiek, X-stralen fluorescentie, ALD, GISAXS, atomaire laag depositie
Disciplines:Materialenwetenschappen en -techniek, Keramische en glasmaterialen, Macromoleculaire en materiaalchemie, Halfgeleidermaterialen, Fysica van gecondenseerde materie en nanofysica, Analytische chemie, Andere materiaaltechnologie