< Terug naar vorige pagina
Project
In situ XRF en XAS studie van atomaire laag depositie op vlakke en poreuze substraten U+2013 depositie van bimetallische materialen.
Het onderzoek betreft de ontwikkeling van synchrotron-gebaseerde meettechnieken voor de in situ karakterisering van een atomair depositieproces van inorganische materialen in/op vaste stoffen. Als specifieke toepassing worden de depositie en vorming van bimetallische materialen bestudeerd.
Datum:1 jan 2011 → 31 dec 2014
Trefwoorden:bimetallische materialen, Atomaire-laagdepoitie, dunne-filmgroei, XAS, XRF
Disciplines:Fysica van gecondenseerde materie en nanofysica