In situ x-stralen gebaseerde studie van de nucleatie en groei van metalen tijdens atomaire laag depositie.

Er wordt gestreefd naar een fundamenteel begrip van de oppervlaktechemie en de mechanismen die de initiële nucleatie en de daaropvolgende evolutie van de morfologie van de film tijdens metaal-ALD controleren. Er worden 3 ALD processen voor Ru en Ag gekozen als prototype systemen. De experimentele aanpak gebruikt oppervlakte gevoelige x-stralen gebaseerde karakterisatie technieken, die in situ of zonder vacuüm-breuk toegepast kunnen worden.