Onderzoeker
Matthias Minjauw
- Trefwoorden:ultrahoog vacuum, xps, atoomlaagdepositie
- Disciplines:Functionalisering van materialen, Nanomaterialen, Metalen en legeringsmaterialen, Oppervlakte- en interfacechemie, Oppervlakte engineering, Nanofysica en nanosystemen, Metrologie, Materiaalsynthese, Oppervlakten, interfaces, 2D-materialen
Affiliaties
- Vakgroep Vastestofwetenschappen (Departement)
Lid
Vanaf6 aug 2013 → Heden
Projecten
1 - 2 of 2
- In situ studie van de oppervlaktechemie tijdens de nucleatie en de groei van cobalt en nikkel met atoomlaagdepositieVanaf1 okt 2019 → 30 sep 2022Financiering: FWO junior postdoctoraal mandaat
- In situ x-stralen gebaseerde studie van de nucleatie en groei van metalen tijdens atomaire laag depositie.Vanaf1 okt 2014 → 30 sep 2018Financiering: BOF - Andere acties, FWO mandaten
Publicaties
21 - 30 van 66
- Plasmonic gold-embedded TiO2 thin films as photocatalytic self-cleaning coatings(2020)
Auteurs: Hannelore Peeters, Maarten Keulemans, Gert Nuyts, Frederik Vanmeert, Chen Li, Matthias Minjauw, Christophe Detavernier, Sara Bals, Silvia Lenaerts, Sammy W. Verbruggen
- Reaction mechanism of the Me3AuPMe3-H-2 plasma-enhanced ALD process(2020)
Auteurs: Michiel Van Daele, Matthew B. E. Griffiths, Matthias Minjauw, Sean T. Barry, Christophe Detavernier, Jolien Dendooven
Pagina's: 11903 - 11914 - The co-reactant role during plasma enhanced atomic layer deposition of palladium(2020)
Auteurs: Ji-Yu Feng, Matthias Minjauw, Ranjith Karuparambil Ramachandran, Michiel Van Daele, Hilde Poelman, Timo Sajavaara, Jolien Dendooven, Christophe Detavernier
Pagina's: 9124 - 9136 - In situ study of the thermal stability of supported Pt nanoparticles and their stabilization via atomic layer deposition overcoating(2020)
Auteurs: Eduardo Solano Minuesa, Jolien Dendooven, Ji-Yu Feng, Philipp Bruener, Matthias Minjauw, Ranjith Karuparambil Ramachandran, Michiel Van Daele, Kevin Van de Kerckhove, Thomas Dobbelaere, Alessandro Coati, et al.
Pagina's: 11684 - 11693 - Atomic Layer Deposition of Ru-containing materials using RuO4 as both the co-reactant and the metal source(2020)
Auteurs: Matthias Minjauw, Ji-Yu Feng, Jolien Dendooven, Christophe Detavernier
Aantal pagina's: 1 - Reaction pathways for atomic layer deposition with lithium hexamethyl disilazide, trimethyl phosphate, and oxygen plasma(2020)
Auteurs: Andreas Werbrouck, Felix Mattelaer, Matthias Minjauw, Mikko Nisula, Jaakko Julin, Frans Munnik, Jolien Dendooven, Christophe Detavernier
Pagina's: 27829 - 27839 - Atomic layer deposition of localized boron- and hydrogen-doped aluminum oxide using trimethyl borate as a dopant precursor(2020)
Auteurs: Felix Mattelaer, Michiel Van Daele, Matthias Minjauw, Mikko Nisula, Simon D. Elliott, Timo Sajavaara, Jolien Dendooven, Christophe Detavernier
Pagina's: 4152 - 4165 - Atomic layer deposition of nitrogen-doped Al phosphate coatings for Li-ion battery applications(2020)
Auteurs: Lowie Henderick, Hamid Hamed, Felix Mattelaer, Matthias Minjauw, Johan Meersschaut, Jolien Dendooven, Mohammadhosein Safari, Philippe Vereecken, Christophe Detavernier
Pagina's: 25949 - 25960 - Area-selective growth and nucleation enhancement during Ru ALD using the RuO4 precursor and H2-gas(2020)
Auteurs: Matthias Minjauw, Hannes Rijckaert, Christophe Detavernier, Jolien Dendooven
Aantal pagina's: 1 - Study of the surface species during thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition of titanium oxide films using in situ IR-spectroscopy and in vacuo X-ray photoelectron spectroscopy(2020)
Auteurs: Sofie Vandenbroucke, Elisabeth Levrau, Matthias Minjauw, Michiel Van Daele, Eduardo Solano Minuesa, Rita Vos, Jolien Dendooven, Christophe Detavernier
Aantal pagina's: 1