< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Area-selective Ru ALD by amorphous carbon modification using H plasma: from atomistic modeling to full wafer process integration

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: Materials Advances

Issue: 8

Volume: 1

Pagina's: 3049 - 3057

Jaar van publicatie:2020

Institutional Repository URL: https://lirias.kuleuven.be/3431376
DOI: https://doi.org/10.1039/d0ma00462f
WoS Id: 000625318000043

Toegankelijkheid:Open