< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Area-selective Ru ALD by amorphous carbon modification using H plasma: from atomistic modeling to full wafer process integration

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: Materials Advances
Issue: 8
Volume: 1
Pagina's: 3049 - 3057
Aantal pagina's: 9
Jaar van publicatie:2020