< Terug naar vorige paginaPublicatie Feasibility study of grapho-epitaxy DSA for complementing EUV lithography beyond N10 Boekbijdrage - Boekhoofdstuk ConferentiebijdrageBoek: Proc. DSA2015Jaar van publicatie:2015Institutional Repository URL: https://lirias.kuleuven.be/1733079ArticleNumber: O10 Toegankelijkheid:ClosedAuteurs/uitgeverChenxi Lin (First author)Yi Zou (Auteur)Davide Ambesi (Auteur)Tamara Druzhinina (Auteur)Sander Wuister (Auteur)Ioannis Karageorgos (Auteur)Julien Ryckaert (Auteur)Praveen Raghavan (Auteur)Roel Gronheid (Last author)OnderzoekseenhedenElektronische Circuits en Systemen (ECS)(Afdeling)KU LeuvenEvenementenInternational Symposium on DSA()Leuven, Belgium
