< Terug naar vorige pagina
Publicatie
In situ IR spectroscopic investigation of alumina ALD on porous silica films: thermal versus plasma-enhanced ALD
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel
Tijdschrift: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C
ISSN: 1932-7447
Issue: 51
Volume: 118
Pagina's: 29854 - 29859
Jaar van publicatie:2014
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:3
CSS-citation score:1
Auteurs:National
Authors from:Higher Education
Toegankelijkheid:Closed