In situ studie van de oppervlaktechemie tijdens de nucleatie en de groei van cobalt en nikkel met atoomlaagdepositie Universiteit Gent
Dit voorstel streeft naar een beter begrip van de chemische en fysische oppervlakteprocessen tijdens kobalt en nikkel atoomlaagdepositie (ALD), met name voor toepassingen in de micro-elektronica en katalyse. In de micro-elektronica is de groei van continue metallische dunne filmen van hoge kwaliteit vereist, en dit liefst selectief op bepaalde delen van het oppervlak (“area-selective ALD”). In de katalyse is men dan weer eerder ...