< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Thin, low roughness Ru films deposited by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition using RuO4 and H2 at low temperatures

Boekbijdrage - Boekabstract Conferentiebijdrage

Boek: Materials for Advanced Metallization, IEEE conference, Abstracts

Aantal pagina's: 1

Jaar van publicatie:2016

Handle: http://hdl.handle.net/1854/LU-8543382